Скрубберы

Приложения скрубберов по процессам с целевыми газами и компонентами для очистки газовых сбросов из технологического оборудования до безопасного уровня вредных веществ в воздухе рабочей зоны по стандартам SEMI

Плазменное травление Металлическое травление – Cl₂, BCl3, HCl, CF4, SF6 Поли кремниевое травление — Cl₂, HBr, Br2, SF6, CF4, BF3, C₄F8 Нитридное и кислотное травление – CF4, CHF3, C₂F6, C₃F8, C₄F8, CH2F2, NF3, O₂ Ионная имплантация Высокая, средняя и низкая – AsH3, PH3, BF3, P, As, Sb, Sb(CH3)3, GeH4, GeF4 ALD, LPCVD, PECVD, HDP- CVD Высокие-К диэлектрики- TMA, TEMAZr, TEMAHf, TDEAHf, TAETO, PET Низкие-К диэлектрики – 1MS, 2 MS, 3 MS, 4 MS, DMDMOS Управляющие электроды- MPA, Ru(Etcp)2, PEMAT Кремний-Германий- SiH4, GeH4 Карбид кремния – WF6, SiH4, H₂, DCS Изолирующие слои – TiCl4, NH3, TDMAT, TDMATa, PDEATa, TAETO, W(CO)6	Легирование кремния- SiH4, AsH3, PH3 Легирование нитридов – SiH4, NH3, TMP, TMB, SiH4, PH3, B₂H6 Оксидирование – SiH4, O₂ Фотовольтаика Конценраторы фотовольтаические – PH3, AsH3, MOC, SiH4, GeH4 CIGS – H₂S, H₂Se Эпитаксия Травление кремния – DCS, TCS, SiH4, HCl, AsH3, PH3, N₂H6 Кремний-Германий – SiH4, GeH3, CBr4, 1MS, 2MS, 3MS, HCl Карбид кремния (SiC) – SiH4, CH4, C₃H₈, TMA, HCl Полупроводниковые структуры III- IV на кремнии и оптоэлектроника GaAs MOCVD – TMGa, AsH3, TBA, TMIn, PH3, TBP GaN MOCVD – TMGa, NH3, UDMN III-IV травление – Cl₂, BCl3, HBr, SiF4, SF6, CH4, GaCl3, InCl3, AsH3, O₂
Артикул	Наименование	Тип и назначение	Производительность	Цена руб. без НДС по усн/шт	Срок отгрузки
СК-001	Мокрый скруббер СГЖ-А (Россия) Руководство по эксплуатации СГЖ-А Pdf	Жидкостной скруббер очищает газы содержащие HCl, Cl₂, NH3, BCl3, HF, HS2 и другие ниже ПДК	≤ 200 л/час при ≤500 Па на входе	3850000	14-16 недель
СК-002	Мокрый скруббер СГЖТ-А (Россия) Руководство по эксплуатации СГЖТ-А Pdf	Жидкостной скруббер с термическим разложением очищает газы содержащие HCl, Cl₂, NH3, BCl3, HF, HS2, SiH4, SiF4, PH3, AsH3 и другие ниже ПДК	≤ 200 л/час при ≤500 Па на входе	5950000	14-16 недель
СК-003	Сухой адсорбционный скруббер (Китай)	Сухой скруббер нормальной температуры Сухой скруббер высокой температуры	100-200 л/мин	По запросу	14-16 недель

Сухой скруббер нормальной температуры
Сухой скруббер высокой температуры

СК-004	Мокрый абсорбционный скруббер (Китай)	Жидкостной абсорбционный скруббер	800-1500 л/мин	По запросу	14-16 недель
СК-005	Термический скруббер (Китай)	Нагрев+ Мокрый скруббер+Охлаждение Нагрев + Сухой скруббер+Охлаждение Орошение+Нагрев+Мокрый скруббер+Охлаждение Скруббер для процессов MOCVD	1000-1500 л/мин	По запросу	14-16 недель

Нагрев+ Мокрый скруббер+Охлаждение
Нагрев + Сухой скруббер+Охлаждение
Орошение+Нагрев+Мокрый скруббер+Охлаждение
Скруббер для процессов MOCVD

СК-006

Каталитический скруббер (Китай)

Каталитический нейтрализатор CO Каталитический нейтрализатор Озона O₃ Каталитический нейтрализатор перфторуглеродов PFC

1000-1500 л/мин

По запросу

14-16 недель

Каталитический нейтрализатор CO
Каталитический нейтрализатор Озона O₃
Каталитический нейтрализатор перфторуглеродов PFC

СК-007

Плазменный скруббер (Китай)

Плазма+ Мокрый скруббер Плазма+Сухой скруббер

400-800 л/мин

По запросу

14-16 недель

Плазма+ Мокрый скруббер
Плазма+Сухой скруббер

СК-008

Заводской башенный скруббер (Китай)

Вторичная нейтрализация кислых газов Вторичная нейтрализация щелочных газов Вторичная нейтрализация прекурсоров

10000-100000 м3/час

По запросу

14-16 недель

Вторичная нейтрализация кислых газов
Вторичная нейтрализация щелочных газов
Вторичная нейтрализация прекурсоров

СК-009	Скруббер летучих органических веществ VOC (Китай)	Адсорбция и разложение VOC	10000-100000 м3/час	По запросу	14-16 недель
СК-010	Аварийный скруббер (Китай)	Сплошная нейтрализация опасных веществ	10000-100000 м3/час	По запросу	14-16 недель

Пример заполненного опросного листа и цены предложения для абсорбционного скруббера